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10월 이달의 과학기술인상에 신영수 교수 선정
과학기술정보통신부와 한국연구재단은 ‘이달의 과학기술인상’ 10월 수상자로 신영수 우리 대학 전기전자공학부 교수를 선정했다.
‘이달의 과학기술인상’은 우수한 연구개발 성과로 과학기술 발전에 공헌한 연구개발자를 매월 1명씩 선정해 과기정통부 장관상과 상금 1000만원을 주는 상이다.
신영수 교수가 연구한 반도체 포토리소그래피는 패턴이 새겨진 마스크에 빛을 비춰 웨이퍼에 소자를 형성해가는 과정으로 반도체 수율을 결정하는 가장 중요한 공정이다.
웨이퍼에 다각형을 만들기 위해서는 마스크에 훨씬 복잡한 패턴을 그려 넣어야 한다. 이런 패턴을 찾아가는 과정을 OPC(Optical Proximity Correction)라고 한다. 기존 OPC는 마스크 형상을 고치고 시뮬레이션으로 웨이퍼 이미지를 확인하는 과정을 반복해야 해 시간이 걸린다.
이에 신 교수는 마스크 형상과 웨이퍼 이미지의 집합을 이용해 기계학습 모델을 만들었다. 이후 더 빠르고 해상도가 높은 OPC 최적화 기술을 개발했다. 마스크 형상과 웨이퍼 이미지 집합을 대량으로 갖고 있다면 이 집합을 이용해 뇌를 훈련하듯 기계학습 모델을 만들 수 있다는 점에 착안해 성과를 냈다.
신 교수는 또 생성형 인공지능으로 기존에 없었던 레이아웃 패턴을 생성하는 방법도 개발했다. 이렇게 생성된 레이아웃 패턴과 기존 샘플 패턴을 같이 활용해 리소그래피 최적화에 적용하자 모델 정확도가 높게 나타났다.
이 기술은 반도체 공정을 개선하고 해외 의존도가 높은 OPC 솔루션의 자립도를 높여 국내 반도체 산업 발전에 기여할 전망이다.
신 교수는 “기존 반도체 리소그래피 연구와 달리 머신러닝과 인공지능을 적용했다는 점에서 차별성이 크다”며 “소수 외국회사가 독점하면서 발생하는 라이선스 비용과 기술개발 정체 문제를 해결하는 데 기여하기를 기대한다”고 했다.
2023.10.04 조회수 4635 -
전기전자 신영수 교수, 국제심포지움 최고논문상
우리학교 전자전산학과 신영수(辛英洙.38) 교수가 최근 미국 산호세(San Jose)에서 열린 고품질 전자설계에 관한 국제학회에서 마스크 재사용을 통한 SoC 설계 비용 감소 기법 이라는 제목의 논문으로 "최고논문상"을 수상했다.
"최고 논문상(Best Paper Award)"은 VLSI 설계 분야에서의 뛰어난 업적을 인정하여 국제전기전자기술협회(IEEE) 컴퓨터연구회(Computer Society)가 수여하는 상으로 신 교수는 고성능, 고집적 SoC를 저가에 제작할 수 있는 새로운 설계방법을 제안하여 수상의 영예를 안았다.
고품질 전자설계에 관한 국제심포지움(ISQED, International Symposium on Quality Electronic Design)은 VLSI 설계의 고품질설계(Design for Quality), 신뢰성(Reliability), 설계방법론(Design Methodology) 등을 다루는 학술행사로 2000년에 시작하여 올해로 6번째를 맞이했다. 지난달 21일부터 23일까지 미국 산호세(San Jose)에서 개최된 이번 행사에서는 총 83편의 논문이 발표됐다.
수상 개요
논문제목 : A Mask Reuse Methodology for Reducing System-on-a-Chip Cost (마스크 재사용을 통한 SoC 설계 비용 감소 기법)
논문저자 : 신영수 (전기 및 전자공학 전공 교수)
논문내용 : SoC (System-on-a-Chip)와 같은 고집적 회로의 제작비용은 크게 설계비용, 마스크 제작비용, 공정비용 등으로 나눌 수 있는데 반도체 공정기술의 발달과 함께 이 모든 요소들이 급격히 증가하고 있다.
본 논문의 내용은 SoC의 구성요소(코어 또는 IP)들을 사전에 개별적인 마스크로 제작해 둔 다음 칩의 플로어플랜에 따라 마스크 정렬을 통해 전체 칩을 제작하는 방법으로서 설계시간 감소와 마스크 제작비용 절감을 통해 SoC를 저가에 제작할 수 있는 획기적인 방법이다.
최우수 논문상 선정 이유 : 고성능, 고집적 SOC를 저가에 제작할 수 있는 새로운 설계방법을 제안했기 때문이다.
2005.04.05 조회수 23213