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뇌신경 보호유전자 세계 첫 발견
KAIST 생명과학과 김재섭 교수(43세)팀은 지나친 자극으로부터 신경세포를 보호하는 유전자를 세계 최초로 발견하고, 이 유전자를 열병을 뜻하는 파이렉시아(Pyrexia)라고 명명했다.
이 유전자는 채널 단백질을 만들며, 이 채널은 섭씨 39도 이상의 고온에 의해 작동된다. 특히 이제까지 온도에 의해 작동되는 채널 단백질들은 여러 종류 발견되었으나, 자극으로부터 신경을 보호하는 채널은 파이렉시아가 처음이다. 이 유전자는 신경세포가 고온에 대해 과민하게 흥분하여 스트레스성 반응을 보이고 이로 인해 기능이 손상되는 것을 방지한다.
또한 이 유전자의 기능이 약화되면 섭씨 40도 고온에서 수분 내에 신경기능이 마비되지만, 이 유전자의 기능이 강화되면 이러한 고온에서도 신경세포의 기능이 손상되지 않고 정상적으로 작동한다.
KAIST 김재섭 교수는 "파이렉시아 채널을 인위적으로 작동시키는 약(화합물)을 개발할 경우, 상습적 마약 복용 등으로 신경이 과도하게 자극되어 뇌기능이 손상되는 것을 방지할 수 있는 획기적인 길이 열릴 것이다"라고 말하면서 "이번 연구 결과는 독감을 비롯한 각종 열병에 의해 의식을 잃거나 뇌기능이 영구하게 손상되는 것도 방지할 수 있는 길을 열었다"며 그 의미를 밝혔다.
한편, 이 연구 결과는 미국에 국제특허 출원되었으며, 세계 최고의 유전학 및 인간질병 유전자 권위지인 네이처 제네틱스 (Nature Genetics) 3월호에 논문으로 계제될 예정이다. 또한 네이처 제네틱스는 이 발견의 중요성을 감안하여 이 논문을 1월 31일자로 인터넷 (http://www.nature.com/ng/)에 먼저 공개했다.
이 유전자는 KAIST 생명과학과와 제넥셀(주)가 공동으로 2003년에 완성한 세계 최초의 형질전환초파리 게놈검색시스템을 활용하여 발굴되었으며, KAIST 생명과학과와 제넥셀(주)는 "형질전환초파리 게놈검색시스템"을 활용하여 파이렉시아 이외에도 여러 종류의 인간질병 및 신경관련 유전자를 발굴하여 연구에 박차를 가하고 있다.
2005.01.31
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이달의 과학기술인상에 물리학과 윤춘섭 교수
이달의 과학기술인상 11월 수상자 한국과학기술원 CKC 윤춘섭 소장
염홍철 대전광역시장은 11월 25일 10:00에 한국과학기술원(KAIST)을 방문, 신성철 부총장과 간부들이 참석한 가운데 11월 수상자로 선정된 캐번디쉬-KAIST공동협력연구센터 윤춘섭 소장에게 11월 <이달의 과학기술인상>』을 수여했다.
스무번째 수상의 영예를 안은 윤춘섭(남/54세) 소장은 2W급 세계 최고 출력 청색 고체 레이저개발 등 과학기술발전과 외국과의 공동협력연구기반 조성 등에 기여한 공로로 이달의 과학기술인으로 선정되었다.
주요공적내용은 ▲ 선진 디스플레이 강국이 치열하게 기술개발을 진행시키고 있는 차세대 디스플레이 기술인 2W급 세계 최고 출력 청색 고체 레이저를 개발, ▲ 상용화를 위해 LG전자에 기술이전으로 고휘도, 고선명도, 대화면 레이저TV를 구현 하였고, 우리나라가 차세대 고화질, 대화면 디스플레이 분야에서 국제적으로 월등히 유리한 기술 우위를 점하는 데 기여, ▲ 캐번디쉬- KAIST 공동협력연구센터 개소로 쌍방향 공동연구 수행을 통해 국내 기초과학의 위상과 연구역량을 한 단계 도약시키고 공동연구 수행의 확고한 기초를 다지는데 기여, ▲ “국부 캐스캐이드 2차 결합”이라는 새로운 3차 비선형 광학 과정을 규명하여 물리학계 최고 권위 잡지인 Physical Review Letters 2004년 11월 12일자에 게재함으로써 비선형 광학분야의 학문적 발전에 크게 기여했다.
윤춘섭 교수의 약력은 다음과 같다.
학력 :
한국과학기술원 고체물리(석사)
영국 Strathclyde Univ.고체물리(박사)
경력 :
KAIST 연구원(‘76~’79)
영국 Strathclyde Univ. Research Fellow(‘83~’88)
한국과학기술원 물리학과 교수(‘88~현재)
2004.11.29
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KAIST-LG-중국명문 5개대 국제 워크샵(중국북경)
KAIST와 LG전자가 중국 최고 명문 대학들과 함께 최첨단 IT 학회를 개최했다.
KAIST(총장 로버트 러플린)가 주최하고 LG 전자㈜가 주관하는 제1회 KAIST-LG-중국 명문 5개대 국제 공동연구 워크샵이 11월 19일(금), 중국 북경 곤륜(Kunlun) 호텔에서 개최됐다.
KAIST 전자전산학과 이용훈(李勇勳, 49, 학과장) 교수를 비롯, 박현욱(朴玄旭, 45), 유회준(柳會峻, 44), 김정호(金禎浩, 43) 교수 등과 30여명의 대학원생이 참여하고 중국에서는 칭화대(북경), 북경대(북경), 복단대(상해), 전자과기대(성도), 시안교통대(서안) 등 5개 대학의 교수 14명과 150여명의 학생들이 참여한다. KAIST는 중국 내 이동 통신 단말기 분야의 우수기술과 최고 인재를 확보하고 있는 이들 명문 대학들과 지난 6월 국제협약을 체결, IT분야 핵심 교수들이 공동연구에 참여중이다.
이용훈 교수는 통신 신호처리 알고리즘 연구 및 구현을 주 연구분야로 북경대와 공동 연구중이고, 유회준 교수는 시안교통대, 전자과기대와 응용프로세서를 포함하는 휴대폰용 SoC 개발을 연구하는 등 KAIST와 중국 대학이 분야에 따라 연계하여 공동 연구를 진행 중이다.
KAIST 유회준 교수는 “한국과 중국은 단순한 관계가 아닌 IT의 미래를 개척하는 동반자 관계”이며 “이번 행사는 통신기술에서 세계 최고의 경쟁력을 유지하고 있는 한국과 중국 교수들이 만나 토론의 장을 마련한 것 자체에 큰 의미가 있다.”고 말했다.
한편, 공동연구사업에 함께 참여중인 LG전자는 한-중 최고 명문 대학간 공동연구를 통해, 미래 휴대폰 기술 확보, 중국 시장에 적합한 기술개발 토대마련, 그리고 중국 최고인재를 채용할 수 있는 계기를 마련한 것으로 판단하고 있다.
중국 정부의 IT 산업에 대한 5년에 걸친 약 255조원 규모의 강력한 지원과, 매년 5000만명 이상이 이동 통신에 신규 가입하고 있는 중국 IT 산업의 향후를 생각할 때, 이번 공동 연구 프로젝트를 통해 이루어질 현지 특화기술확보, IT 인력 교류 활성화 등의 파급 효과는 더욱 클 것으로 기대된다.
또한 이번 행사에는 중국 신식산업부 과학기술사 한쭌(韓俊, 한준) 부사장, 중국전자산업협회 뤼우홍쿤(洪昆, 류홍곤) 부회장, 중국전자공업표준화기술협회 왕취엔잉(王全英, 왕전영) 부회장, 중국신식산업부 짱웨이(장유)처장 등을 초청, 중국의 정보통신 기술 현황과 산업발전동향, 한-중간 기술정보교류 활성화에 관한 연설도 진행된다.
2004.11.23
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캐번디쉬-KAIST 공동연구협력센터 개소(11.8 월)
지난 4월 기초연구분야 세계적 연구소인 영국 캠브리지대 캐번디쉬연구센터와 한국과학기술원간의 공동연구 양해각서 체결에 따른 "캐번디쉬-KAIST 공동연구협력센터(CKC)"가 KAIST 정문술빌딩에 설립, 8일 개소식을 갖고 본격적인 국내 연구 활동에 들어갔다.
동북아 R&D허브 구축을 위한 해외 우수 연구기관 국내 유치사업의 일환으로 추진된 이 사업은 지난 4월 프랑스 파스퇴르(연)에 이어 두 번째다.
캐번디쉬연구센터의 창의적인 연구.교육철학, 선진연구관리기법 등을 국내 대학 및 연구소에 접목함로써 우리나라 기초연구역량을 획기적으로 제고할 것으로 기대하고 있다.
"Cavendish-KAIST 공동연구협력센터"는 카벤디쉬 연구소의 세계적 과학자와 국내 우수과학자들과의 연구협력을 전담 및 지원하는 창구기능을 수행한다.
특히 연구과제 공동 발굴, 과학자 상호교류, 세계석학 초청 특강 등 쌍방향 연구체제를 확립, 국제공동연구의 새로운 선도 모델을 제시할 방침이다.
이번 개소식에는 러플린(Robert B. Laughlin) KAIST 총장, Malcolm Longair 카벤디쉬 연구소장, Warwick Morris 주한영국대사, Shoba Ponnappa 주한영국문화원장 등 200여명의 국내외 주요 인사들이 참여했다.
또 8일 오후부터 9일 오전까지 이틀에 걸쳐 나노전자, 스핀전자, 광전자, 바이오물리 등 4개의 핵심전략 분야에 대해 카벤디쉬측 연구책임자와 국내 연구진 등이 참석하는 공동심포지엄도 개최될 예정이다.
2004.11.08
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BK정보기술사업단 - 중국명문 5개대학과 협약체결
LGE/BK정보기술사업단 공동 후원 KAIST-중국 명문 5개 대학 국제 공동연구 협약 체결
KAIST 전자전산학과(학과장:이용훈)는 지난 6월 중순, LGE와 BK정보기술사업단 공동후원으로 중국 명문 5개 대학-칭화대, 북경대, 복단대(상해), 전자과기대(청도), 시안교통대-(시안)과 국제 공동연구 협약을 체결했다고 밝혔다.
이번 공동연구는 앞으로 5년 동안 LGE와 BK정보기술사업단의 지원을 받아 휴대용 단말 기술 무선 이동 송수신기와 통신기술 및 멀티미디어 기술의 공동연구가 지속할 예정이다.
이번 공동연구 협약 체결은 KAIST, 중국 명문 5개 대학 및 LGE와 국제공동연구 및 교류증진을 활성화하고, 국제적인 산학협동 연구모델을 제시할 것으로 기대된다.
한편, KAIST 전자전산학과와 칭화대 전자전산학과는 지난 7월 13일 중국 북경 칭화대에서, 양 학과 교수 및 학생 50명이 참석한 가운데 “Next Generation RF and Wireless Communication Technologies"이라는 주제 아래 2004 KAIST-칭화 ECE 워크샵을 개최하였다.
이러한 일련의 국제 협력교류활동으로 급부상하는 중국IT분야의 현 주소를 파악하고, 지속적인 연구 교류 및 교육에 관한 협력을 심화할 수 있을 것으로 기대된다.
내용문의 : BK21 사무실 김미영 (T. 042-869-8502)
2004.07.19
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국내 독자기술 해외수출
- KAIST 기계공학과 김승우교수 미국 ZYGO(주)에 기술이전 -
KAIST 신기술창업지원단 기술이전교류센터(대덕밸리 TLO컨소시엄)는 국내독자 개발기술인 KAIST의 기계공학과 김승우(金承佑, 49) 교수의 “백색광주사간섭법을 이용한 투명한 박막층의 3차원 두께 형상 측정 및 굴절률 측정 방법 및 그 기록매체” (관련 특허 : 미국 US 6,545,763B1 “Method for measuring a thickness profile and a refractive index using white-light scanning interferometry and recording medium therefor")기술을 세계적인 전자측정기기 회사인 미국의 ZYGO(주)사에 기술이전 계약을 성사시켰다.
이 특허기술은 TFT-LCD Panel 생산공정의 검사장비로 사용하여, 여러층의 투명 박막을 가진 층별 형상 측정에 사용 가능한 기술이다. 기존의 비접촉 미세형상 혹은 박막두께 측정기에 비하여 월등한 경쟁력을 보유하고 있으며, 향후 이 분야의 전세계 시장은 연간 수조원에 이를 것으로 예상되며, KAIST는 매출액의 2.5%를 경상기술료로 지급받게 된다.
이번 기술이전의 성과는 기술이전교류센터의 김희태 박사가 9개월간의 협상을 통해서 이루어진 결과로 다음과 같은 두가지 점에서 그 의미가 크다고 할 수 있다.
첫째, 기술적 측면에서 국내에서 독자로 개발된 기술이 해외 선진국인 미국에 수출 되었다는 점에서 국내기술의 정도가 선진국과 동일한 선상 내지는 그 위에 있음을 시사하고 있다. 둘째, 국내기술이전 전문가에 의하여, 해외의 유수한 기업과 독자적인 협상 및 노력으로 기술이전을 성사시켰다는 점이다. 그동안 대학이나 정부출연연구소의 연구결과가 해외에 기술수출되는 경우는 극소수였으며, 그 경우도 해외와 공동 연구결과의 지분이전 및 소프트웨어기술을 이전하는 정도였다. 이번 해외기술 이전은 국내 공공기관내의 기술이전전문센터가 과학기술부의 지원(2002년)에 의하여 전국 권역별 5개 거점기관을 설립된 후 처음으로 발생한 것으로 향후 공공기술 활용의 새로운 돌파구로 기술수출을 이용할 수 있으며, 부메랑효과에 의하여 국내기업에서도 첨단기술을 활용하는 기회를 가져다 줄 것으로 기대된다.
* 내용문의 : KAIST 기술이전교류센터 김희태박사(042-869-4794, 016-412-8321)
2004.02.28
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